技术特点：

1. 提供完整的成套低成本图形化衬底制备技术，有效提高GaN基发光二极管的出光率。
2. 提供自主研发的全自动国产化图形衬底刻蚀系统，单次刻蚀衬底数>7片。
3. 提供成套图形化衬底制造工艺相关的低成本制造设备方案及工艺咨询服务。

主要指标：
1. 多种图形化衬底结构和配套工艺方案。
2. 刻蚀系统采用平面式感应线圈结构，有效提高刻蚀均匀性。
3. 刻蚀系统的关键部件全部采用进口的国际主流产品，可实现7天24小时不间断生产。包括：射频电源（自动匹配）、耐腐蚀干泵、磁悬浮分子泵、压力调节阀、质量流量计等。
4. 刻蚀系统采用触摸屏控制，工艺过程全自动，动画实时显示工艺过程的状况和提示。
5. 刻蚀系统的单次刻蚀衬底数可根据客户需求和预算定制，标准配置为7片，最大可选20片。

应用状况：
基于氮化镓材料的高亮度LED (HB-LED)是未来普通照明光源最为重要的技术，它的应用领域包括照明、手机、显示、汽车、信号灯以及其他许多领域。到 2011 年，预计总的高亮度 LED 市场将轻松超过 25 亿美元。

图形化蓝宝石衬底技术（PSS）可有效减少氮化镓外延层的外延缺陷，使外延层晶体质量明显提高，有效提高氮化镓基LED的光功率。

图形化蓝宝石衬底制备

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