技术特点: 1.因钻蚀引起的硅片边缘损耗小(约1mm左右),有利于提高太阳能电池片的效率; 2.均匀性好,每批的一致性相当好; 3.刻蚀片量大,每次可以超过500片; 4.工艺过程自动控制。 主要指标: 1.平板式反应室系统1套,可放置125×125mm2以内的各种电池片500片; 2.射频电源1套,13.56 MHz,功率1000W,带正向功率和反射功率计指示,带自动匹配器; 3.西门子公司的可编程序控制器PLC 1套; 4.西门子公司的触摸屏1套,用于显示和工艺操作; 5.质量流量计2个;气路2路。 应用状况: 目前,它已成为太阳能电池和光电子领域科研和生产不可缺少的设备。 ![]() |