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先进制造
SP－8A 溅射台
 
技术特点：
  1.采用分子泵机组抽真空，真空度高，无油污染。
  2. 具有三个靶座，可同时溅射两种金属，可形成多层复合膜或实现金属共溅射。
  3. 片子可旋转，不仅可以提高均匀性，而且可以降低片子上的温度，特别适合于用剥离（lift-off）技术制备各种难腐蚀金属的亚微米图形（如Au、Pt、Ta、超导材料等）。
  4. 用两个质量流量计控制气流量，可实现气体准确混合，提高工艺重复性。可外接4种气体（如Ar、O2、N2等）。
  5. 溅射时间可预置设定，用数字定时器定时。
  6. 可加工Ф2-4英寸的片子。由于采取了独特的结构，均匀性好是其突出的优点。

主要指标：
  1. 射频电源500W，频率13.56Mhz。直流电源2000W，共两种电源，功率可调。带匹配器和定时器。
  2. 真空室直径600mm，三个靶座。可旋转载片架。
  3. 本地真空度优于5X10-4Pa。
  4. 采用1200升/秒分子泵及8升/秒机械泵组成的真空系统。
  5. 用碘钨灯加热，温度设定可控，数字显示。
  6. 均匀性误差：±4%（4英寸内）。

应用状况：
    SP-8A型磁控溅射台是一种经长期实践检验、性能优良的科研和生产两用型设备。它可用于各种金属薄膜（如Au、Ag、Pt、W、Mo、Ta、Ti、Al、Si、ITO等）的淀积。
   
    可根据用户具体要求协商调整配置，可提供溅射工艺咨询和提供上述剥离技术。

    本机具有极高的性能/价格比，得到国内科研单位及高校用户的好评。
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